200 वैक्यूम कोटिंग मशीनों से स्टूडियो को एक बार साफ करना चाहिए

200 वैक्यूम कोटिंग मशीनों से स्टूडियो को एक बार साफ करना चाहिए

वैक्यूम कोटिंग उपकरण 200 से अधिक कोटिंग प्रक्रियाओं को पूरा करने के बाद, स्टूडियो को एक बार साफ किया जाना चाहिए। विधि यह है: निर्वात कक्ष की भीतरी दीवार को कास्टिक सोडा (NaOH) के संतृप्त घोल से बार-बार रगड़ें, (ध्यान दें कि जलने से बचने के लिए मानव त्वचा सीधे कास्टिक सोडा घोल से संपर्क नहीं कर सकती है) इसका उद्देश्य प्लेटेड फिल्म सामग्री बनाना है एल्यूमीनियम (AL) NaOH के साथ प्रतिक्रिया करता है। परत गिर जाती है और हाइड्रोजन गैस निकलती है। फिर वैक्यूम चैम्बर को साफ पानी से साफ करें और एक्सट्रैक्शन वाल्व में मौजूद गंदगी को गैसोलीन में भिगोए कपड़े से साफ करें।

वैक्यूम कोटिंग मशीन फिल्म बनाने की प्रक्रिया

वाष्पीकरण कोटिंग आम तौर पर परमाणु समूहों या आयनों के रूप में सतह के घटकों को वाष्पित करने के लिए लक्ष्य सामग्री को गर्म करती है, और फिल्म निर्माण प्रक्रिया (बिखरी-द्वीप-जैसी संरचना-योनि संरचना-) के माध्यम से एक पतली फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट की सतह पर बस जाती है। स्तरित वृद्धि)। स्पटरिंग कोटिंग के लिए, इसे केवल इलेक्ट्रॉनों या उच्च-ऊर्जा लेजर के साथ लक्ष्य पर बमबारी के रूप में समझा जा सकता है, और सतह के घटकों को परमाणु समूहों या आयनों के रूप में स्पटरिंग किया जा सकता है, और अंत में फिल्म के माध्यम से सब्सट्रेट की सतह पर जमा किया जा सकता है- बनाने की प्रक्रिया, और अंत में एक पतली फिल्म बनाना।

वैक्यूम कोटिंग मशीन में करंट की स्थानीय सांद्रता

उच्च इलेक्ट्रॉन घनत्व बिंदु का उत्सर्जित हिस्सा एक उच्च घनत्व धारा उत्पन्न करेगा, और उच्च घनत्व धारा जूल गर्मी उत्पन्न कर सकती है और गर्म इलेक्ट्रॉनों का उत्सर्जन करते हुए बिंदु के तापमान में वृद्धि जारी रख सकती है। इस घटना के परिणामस्वरूप धारा का स्थानीयकृत संकेन्द्रण होता है।

करंट की स्थानीय सांद्रता से उत्पन्न जूल ऊष्मा कैथोड सामग्री से बड़े पैमाने पर आयन और इलेक्ट्रॉन उत्सर्जन को प्रेरित कर सकती है, पिघले हुए कैथोड सामग्री कणों को छोड़ सकती है और डिस्चार्ज निशान छोड़ सकती है।

बड़ी संख्या में उत्सर्जित आयनों का एक हिस्सा अंतरिक्ष आवेश परत और मजबूत विद्युत क्षेत्र को पुनर्जीवित करने के लिए कैथोड सामग्री की सतह पर वापस खींच लिया जाएगा, और एक छोटे से कार्य फ़ंक्शन के साथ नया उत्पन्न बिंदु फिर से इलेक्ट्रॉनों का उत्सर्जन करना शुरू कर देगा। .

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