कोटिंग वैक्यूम डिग्री और वैक्यूम कोटिंग मशीन का प्रतिक्रियाशील गैस आंशिक दबाव।

कोटिंग वैक्यूम डिग्री और वैक्यूम कोटिंग मशीन का प्रतिक्रियाशील गैस आंशिक दबाव।

फिल्म संरचना और प्रदर्शन पर आयन चढ़ाना की वैक्यूम डिग्री का प्रभाव वैक्यूम वाष्पीकरण के समान है, लेकिन प्रतिक्रियाशील गैस के आंशिक दबाव का प्रतिक्रियाशील आयन द्वारा तैयार यौगिक फिल्म की संरचना, संरचना और प्रदर्शन पर सीधा प्रभाव पड़ता है। चढ़ाना. चित्र 5 आयन-प्लेटेड टिन फिल्म की कठोरता और नाइट्रोजन के आंशिक दबाव के बीच का संबंध है, इसलिए प्रतिक्रियाशील गैस का आंशिक दबाव आयन-प्लेटिंग विधि, संरचना, गुण, अनुप्रयोग आवश्यकताओं और के अनुसार चुना जाना चाहिए। मिश्रित फिल्म परत के उपकरण

वैक्यूम कोटिंग मशीन की वाष्पीकरण स्रोत शक्ति

वाष्पीकरण स्रोत की शक्ति का वाष्पीकरण दर पर सीधा प्रभाव पड़ता है, जो बदले में जमाव दर को प्रभावित करता है, और फिल्म की संरचना और गुणों को प्रभावित करता है। जब यौगिक फिल्म प्रतिक्रियाशील रूप से जमा होती है तो वाष्पीकरण स्रोत की शक्ति फिल्म की संरचना को भी प्रभावित करेगी।

आवश्यक प्रदर्शन के साथ फिल्म परत प्राप्त करने के लिए, एक व्यापक विश्लेषण किया जाना चाहिए, विभिन्न कारकों पर विचार किया जाना चाहिए, कोटिंग विधि का चयन किया जाना चाहिए, और उचित कोटिंग प्रक्रिया पैरामीटर निर्धारित किए जाने चाहिए।

वैक्यूम कोटर सब्सट्रेट तापमान।

आयन-लेपित सब्सट्रेट का तापमान सीधे फिल्म के संगठन, संरचना और प्रदर्शन को प्रभावित करता है। सामान्य तौर पर, तापमान में वृद्धि फिल्म और सब्सट्रेट के बीच आसंजन में सुधार के लिए अनुकूल है, और फिल्म के संगठन और प्रदर्शन में सुधार के लिए अनुकूल है। हालाँकि, यदि तापमान बहुत अधिक है, तो जमाव दर कम हो जाएगी, और कभी-कभी फिल्म के दाने मोटे हो जाएंगे और प्रदर्शन खराब हो जाएगा। चित्र 6 में, एचसीडी आयन क्रोमियम प्लेटिंग फिल्म की सूक्ष्म कठोरता सब्सट्रेट के तापमान से प्रभावित होती है। इसके अलावा, सब्सट्रेट तापमान का विकल्प भी सब्सट्रेट सामग्री के गुणों, जैसे स्टील का टेम्परिंग तापमान, आदि द्वारा सीमित होता है।

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