ग्रेड 2 टाइटेनियम हीटर ट्यूब के लिए 60 डिग्री पर 2% NaCl में 500 पीपीएम हाइड्रोजन सल्फाइड (H₂S) के संपर्क में आने पर, सल्फाइड आयन निष्क्रिय फिल्म को TiO₂ से TiS में कैसे बदलता है और संक्षारण दर को 0.02 से 0.30 मिमी/वर्ष तक कैसे बढ़ाता है?
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ग्रेड 2 टाइटेनियम पर 2% NaCl में 60 डिग्री पर 500 पीपीएम H2S के साथ निष्क्रिय फिल्म TiO2 से टाइटेनियम सल्फाइड (TiS) में बदल जाती है। TiS परत एक छिद्रपूर्ण, गैर-सुरक्षात्मक और प्रवाहकीय परत है। संक्षारण दर 0.01-0.03 मिमी/वर्ष (कोई एच 2 एस नहीं) से 0.20-0.50 मिमी/वर्ष तक होती है। खुले सर्किट की क्षमता को +0.1 V से −0.4 V (बनाम Ag/AgCl) में स्थानांतरित कर दिया गया है। Ti + 2H2S→TiS2 + 2H2 टाइटेनियम सक्रिय रूप से घुल जाता है।
सल्फाइड का तंत्र-प्रेरित अवक्षेपण
सल्फाइड आयन टाइटेनियम की सतह पर अवशोषित होते हैं और ऑक्साइड फिल्म के साथ प्रतिक्रिया करते हैं: TiO2 + 2H2S → TiS2 + 2H2O। सल्फाइड परत धातु के लिए सुरक्षात्मक नहीं है। संक्षारण एकसमान है, कोई गड्ढा नहीं दिखता।
H2S एकाग्रता के एक कार्य के रूप में मात्रात्मक संक्षारण दर
H2S सामग्री (पीपीएम) संक्षारण दर (मिमी/वर्ष) सतह फिल्म 0.01-0.03 TiO{{2}मिश्रित 50 0.06-0.12 मिश्रित 100 0.10-0.20 TiS 500 0.20-0.40 TiS 1,{7}} TiS सल्फाइड सहनशीलता गाइड
एच₂एस एकाग्रता (पीपीएम) अनुशंसित ग्रेड अनुमानित संक्षारण दर (मिमी/वर्ष)
<50 Grade 2 <0.10 50-200 Grade 7 0.05-0.15 200-500 Grade 7 plus cathodic protection 0.10-0.25 >500 पीटीएफई-लेपित<0.01
एक अच्छी तरह से जानकारीयुक्त विवरण लिखना
Avoid Grade 2 titanium at concentrations >50 पीपीएम एच2एस जिसमें नमकीन पानी होता है। टाइटेनियम हीटर (ग्रेड 7) या पीटीएफई लेपित का उपयोग करें। इंजीनियर सही सामग्री चुनने के लिए सल्फाइड के विघटन के ज्ञान का उपयोग करता है।
