अयोग्य निकल चढ़ाना परतों पर पुनः चढ़ाना का एक अच्छा काम कैसे करें

अयोग्य निकल चढ़ाना परतों पर पुनः चढ़ाना का एक अच्छा काम कैसे करें

विभिन्न कारणों से, निकल चढ़ाना परत की गुणवत्ता कुछ हद तक घटिया हो सकती है। यदि प्रभावी समाधान किए जा सकें, तो अतिरिक्त चढ़ाना और मरम्मत को कम किया जा सकता है। कोटिंग पर सुस्त और गड़गड़ाहट को चमकाने और मरम्मत करने के अलावा, उन हिस्सों पर मरम्मत चढ़ाना करना भी एक सामान्य तरीका है जिन्हें पॉलिश करना मुश्किल है या पॉलिश करने के बाद सब्सट्रेट उजागर हो गया है।

निकल चढ़ाना निष्क्रिय करना बहुत आसान है, खासकर हवा और क्षारीय घोल में। इसलिए, निकल परत पर चढ़ाने का अच्छा काम करने की कुंजी निकल परत की सतह परत को सक्रिय करना है। केवल तभी सफल चढ़ाना प्राप्त किया जा सकता है जब निकल परत की सतह परत अच्छी सक्रिय अवस्था में हो।

प्लेटिंग का अच्छा काम करने के लिए, भागों के गुणों, आकृतियों और विशिष्टताओं के आधार पर अलग-अलग तरीकों का चयन किया जाना चाहिए। उदाहरण के लिए, यदि यह अम्लीय तांबे की प्लेटिंग के लिए उपयुक्त है, तो सतह सक्रियण के बाद सब्सट्रेट पर लोहे को उजागर किए बिना तांबे या निकल की प्लेटिंग सीधे की जा सकती है। यदि यह अम्लीय तांबे की प्लेटिंग के लिए उपयुक्त नहीं है या सब्सट्रेट पर लोहे को उजागर नहीं करता है, तो प्लेटिंग के लिए सतह सक्रियण के बाद सीधे निकल की प्लेटिंग की जानी चाहिए।

विशिष्ट विधि इस प्रकार है: क्रोमियम के साथ चढ़ाए गए भागों पर क्रोम हटाने का उपचार करें, कोटिंग पर फफोले या छीलने वाले भागों को हटा दें, और भागों की विशिष्ट स्थिति के अनुसार निम्नलिखित तरीकों का चयन करें।

(1) तांबा और निकल चढ़ाना के लिए उपयुक्त: degreasing (रासायनिक विधि का उपयोग करके), सफाई, पानी फेंकना, ब्रश करना (बड़े हिस्से), केंद्रित हाइड्रोक्लोरिक एसिड सक्रियण, सफाई, पतला सल्फ्यूरिक एसिड नक़्क़ाशी, एसिड तांबा चढ़ाना, सफाई, पतला सल्फ्यूरिक एसिड नक़्क़ाशी, निकल चढ़ाना, सफाई, क्रोमियम चढ़ाना, सफाई (रीसाइक्लिंग), सुखाने, और निरीक्षण के लिए भेजना।

(2) निकल चढ़ाना के लिए उपयुक्त: degreasing (रासायनिक विधि का उपयोग करके), पानी से सफाई, फेंकना और ब्रश करना (बड़े हिस्से), केंद्रित हाइड्रोक्लोरिक एसिड के साथ सक्रिय करना, निकल चढ़ाना के साथ सफाई, क्रोमियम चढ़ाना के साथ सफाई, सफाई (रीसाइक्लिंग), सुखाने, और निरीक्षण के लिए भेजना।

(3) इलेक्ट्रो पॉलिशिंग एक्टिवेशन विधि के उपयोग से भी अच्छे परिणाम प्राप्त किए जा सकते हैं। इलेक्ट्रो पॉलिशिंग एक्टिवेशन विधि का सूत्र और प्रक्रिया पैरामीटर:

औद्योगिक सल्फ्यूरिक एसिड (घनत्व l. 849/mL) की खुराक क्रोमिक एनहाइड्राइड 509/L और ग्लिसरॉल 509/L के लिए "तैयारी" अनुभाग में पाई जा सकती है

घोल घनत्व: 1.58-1.629/एमएल, तापमान: कमरे का तापमान

एनोड धारा घनत्व l-10A/dm2 3-5 सेकंड के लिए

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