इलेक्ट्रिक हीटिंग ट्यूबों पर इलेक्ट्रोलेस निकल चढ़ाना की प्रक्रिया विशेषताओं का परिचय

इलेक्ट्रिक हीटिंग ट्यूबों पर इलेक्ट्रोलेस निकल चढ़ाना की प्रक्रिया विशेषताओं का परिचय

1. समान मोटाई और अच्छी चढ़ाना क्षमता रासायनिक निकल चढ़ाना की एक प्रमुख विशेषता है, जो इसके व्यापक अनुप्रयोग के कारणों में से एक है। रासायनिक निकल चढ़ाना इलेक्ट्रोप्लेटिंग परत में असमान वर्तमान वितरण के कारण असमान मोटाई से बचा जाता है। इलेक्ट्रोप्लेटिंग परत की मोटाई पूरे भाग में बहुत भिन्न होती है, विशेष रूप से जटिल आकृतियों वाले भागों पर। कोटिंग भाग के किनारों और कोनों पर और एनोड के पास मोटी होती है, जबकि कोटिंग आंतरिक सतह पर पतली होती है या एनोड से दूर होती है, भले ही इसे चढ़ाया नहीं जा सकता, रासायनिक चढ़ाना का उपयोग करके इलेक्ट्रोप्लेटिंग की इस कमी से बचा जा सकता है। एक रासायनिक निकल निर्माता में काम करते समय, जब तक भाग की सतह चढ़ाना समाधान के संपर्क में आती है, चढ़ाना समाधान में उपभोग किए गए घटकों को समय-समय पर फिर से भर दिया जा सकता है, और किसी भी भाग की चढ़ाना मोटाई मूल रूप से वही होती है , खांचे, अंतराल और अंधा छेद के लिए भी।

2. हाइड्रोजन के भंगुरता की कोई समस्या नहीं है

इलेक्ट्रोप्लेटिंग निकल केशन को धात्विक निकल में परिवर्तित करने और इसे एनोड पर जमा करने के लिए एक शक्ति स्रोत का उपयोग है। रासायनिक कमी की विधि निकेल केशन को धात्विक निकल में कम करना और इसे सब्सट्रेट धातु की सतह पर जमा करना है। प्रयोगों से पता चला है कि कोटिंग में हाइड्रोजन का समावेश रासायनिक कमी प्रतिक्रिया से संबंधित नहीं है, बल्कि इलेक्ट्रोप्लेटिंग स्थितियों से संबंधित है। आमतौर पर, कोटिंग में हाइड्रोजन सामग्री वर्तमान घनत्व में वृद्धि के साथ बढ़ती है।

निकल इलेक्ट्रोप्लेटिंग समाधान में, NiSO4 और H2PO3 के बीच प्रतिक्रिया से उत्पन्न हाइड्रोजन के एक छोटे से हिस्से को छोड़कर, दो ध्रुवों के विद्युतीकरण के दौरान इलेक्ट्रोड प्रतिक्रिया के कारण होने वाले हाइड्रोलिसिस से अधिकांश हाइड्रोजन उत्पन्न होता है। एनोड प्रतिक्रिया में, बड़ी मात्रा में हाइड्रोजन उत्पन्न होता है, और कैथोड पर हाइड्रोजन और धातु नी-पी मिश्र धातु एक ही समय में अवक्षेपित होता है, जिससे (नी-पी) एच बनता है, जो जमाव परत का पालन करता है। कैथोड सतह पर अत्यधिक मात्रा में परमाणु हाइड्रोजन के बनने के कारण, एक हिस्सा H2 उत्पन्न करने के लिए उजाड़ हो जाता है, हालांकि, अगर अलग होने का समय नहीं है, तो यह कोटिंग के अंदर ही रहेगा। कोटिंग के अंदर बचा हुआ हाइड्रोजन का एक हिस्सा बेस मेटल में फैल जाएगा, जबकि हाइड्रोजन का एक और हिस्सा बेस मेटल और कोटिंग के दोषों पर हाइड्रोजन गैस द्रव्यमान बनाने के लिए इकट्ठा होगा। इस गैस द्रव्यमान में उच्च दबाव होता है, और दबाव में दोष दरारें पैदा करेगा। तनाव के तहत, फ्रैक्चर स्रोत का गठन किया जाएगा, जिससे हाइड्रोजन उत्सर्जन फ्रैक्चर हो जाएगा। हाइड्रोजन न केवल बेस मेटल में प्रवेश करता है, बल्कि कोटिंग में भी प्रवेश करता है।

3. कई सामग्रियों और घटकों के कार्य, जैसे संक्षारण प्रतिरोध और उच्च तापमान ऑक्सीकरण प्रतिरोध, सामग्री और घटकों की सतह परत द्वारा परिलक्षित होते हैं। सामान्य तौर पर, विशेष कार्यों के साथ कुछ रासायनिक रूप से चढ़ाया हुआ निकल परतों का उपयोग अन्य तरीकों से तैयार ठोस सामग्री को बदलने के लिए किया जा सकता है, या सस्ती सब्सट्रेट सामग्री का उपयोग मूल्यवान कच्चे माल से बने घटकों को बदलने के लिए किया जा सकता है। इसलिए, रासायनिक रूप से मढ़वाए गए निकेल के आर्थिक लाभ बहुत महत्वपूर्ण हैं।

4. इसे विभिन्न सामग्रियों की सतह पर जमा किया जा सकता है, जैसे कि स्टील निकल आधारित मिश्र धातु, जस्ता आधारित मिश्र धातु, कांच, चीनी मिट्टी की चीज़ें, प्लास्टिक, अर्धचालक, आदि, इन सामग्रियों के प्रदर्शन में सुधार के लिए परिस्थितियाँ पैदा करते हैं।

5. इसमें सामान्य इलेक्ट्रोप्लेटिंग के लिए आवश्यक डीसी मोटर या नियंत्रण उपकरण की आवश्यकता नहीं होती है, और गर्मी उपचार तापमान कम होता है। जब तक यह 400 डिग्री से नीचे अलग-अलग इन्सुलेशन समय से गुजरता है, तब तक विभिन्न संक्षारण प्रतिरोध और पहनने के प्रतिरोध प्राप्त किए जा सकते हैं। इसलिए, इसमें गर्मी उपचार विरूपण की समस्या नहीं है, और विशेष रूप से पहनने और संक्षारण प्रतिरोध के लिए जटिल आकार और सतह आवश्यकताओं वाले भागों को संसाधित करने के लिए उपयुक्त है।

6. अन्य सतह उपचार सुरक्षा की तुलना में सरल प्रक्रिया, सुविधाजनक संचालन, कम तापमान और कम लागत के साथ रासायनिक जमाव परत की मोटाई नियंत्रणीय है। यह छोटे और मध्यम आकार के कारखानों या छोटे पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त है।