इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग की एकसमान मोटाई का महत्व
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इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग की एकसमान मोटाई का महत्व
इलेक्ट्रोलेस निकल चढ़ाना की मोटाई की एकरूपता इसकी गुणवत्ता को अलग करने में एक महत्वपूर्ण कारक है, और ऐसे कई कारक हैं जो मोटाई और एकरूपता को प्रभावित कर सकते हैं।
एक समान मोटाई और अच्छी प्लेटिंग क्षमता इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग की एक प्रमुख विशेषता है, जो इसके व्यापक उपयोग के कारणों में से एक है। इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग असमान करंट वितरण के कारण प्लेटिंग परत की असमान मोटाई को रोकती है। प्लेटिंग परत की मोटाई सभी भागों में बहुत भिन्न होती है, विशेष रूप से जटिल दिखने वाले भागों में। प्लेटिंग परत किनारों पर और भाग के एनोड के पास अपेक्षाकृत मोटी होती है, जबकि प्लेटिंग परत आंतरिक सतह या एनोड से दूर के क्षेत्रों पर पतली होती है, और इसे चढ़ाया नहीं जा सकता है। इलेक्ट्रोलेस प्लेटिंग का चयन करके प्लेटिंग की इस कमी को रोका जा सकता है।
रासायनिक चढ़ाना के दौरान, यदि भाग की सतह चढ़ाना समाधान के संपर्क में आती है, तो चढ़ाना समाधान में खपत घटकों को समय पर भरा जा सकता है, और सभी भागों की कोटिंग की मोटाई मूल रूप से समान होती है, यहां तक कि खांचे, अंतराल और अंधे छेद भी होते हैं।
रासायनिक निकल चढ़ाना प्रक्रिया का पूर्व उपचार
इलेक्ट्रोलेस निकल चढ़ाना की उत्पादन प्रक्रिया में तीन प्रमुख भाग शामिल हैं: पूर्व उपचार, इलेक्ट्रोलेस निकल चढ़ाना प्राप्त करना, और बाद का उपचार, जिनमें से प्रत्येक एक संतोषजनक इलेक्ट्रोलेस निकल चढ़ाना परत प्राप्त करने के लिए एक महत्वपूर्ण गारंटी है।
इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग में आमतौर पर इस्तेमाल की जाने वाली प्री-ट्रीटमेंट विधियां इलेक्ट्रोप्लेटिंग प्रक्रियाओं के समान ही होती हैं। इलेक्ट्रोलेस निकल प्लेटिंग से पहले, प्लेट किए जाने वाले धातु उत्पादों की सतह के प्री-ट्रीटमेंट में पीसने, पॉलिश करने, तेल हटाने, जंग हटाने और सक्रियण जैसी प्रक्रियाएं शामिल होती हैं। उनमें से, पीसने और यांत्रिक पॉलिशिंग यांत्रिक प्रसंस्करण प्रक्रियाएं हैं जो समतल करने के लिए प्लेट किए गए भागों की सतह का इलाज करती हैं; तेल और जंग हटाने का मतलब है कि प्लेट किए जाने वाले भागों की सतह पर तेल और जंग को हटाना, जिससे कोटिंग को और अधिक मजबूती से बंधना आसान हो जाता है; सक्रियण रासायनिक प्लेटिंग प्रतिक्रिया को उत्प्रेरित करने के लिए वर्कपीस की पर्याप्त रूप से सक्रिय सतह प्राप्त करना है।
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