वैक्यूम कोटिंग मशीन एक उच्च-आवृत्ति बिजली आपूर्ति का उपयोग करती है, और लूप में एक मजबूत संधारित्र जोड़ा जाता है।

वैक्यूम कोटिंग मशीन एक उच्च-आवृत्ति बिजली आपूर्ति का उपयोग करती है, और लूप में एक मजबूत संधारित्र जोड़ा जाता है।

इस समस्या को हल करने के लिए मैग्नेट्रोन रिएक्टिव स्पटरिंग का आविष्कार किया गया। अर्थात्, धातु लक्ष्य का उपयोग करके, आर्गन और नाइट्रोजन या ऑक्सीजन जैसी प्रतिक्रियाशील गैस को जोड़ना। जब धातु लक्ष्य भाग से टकराता है, तो यह ऊर्जा रूपांतरण के कारण प्रतिक्रियाशील गैस के साथ मिलकर नाइट्राइड या ऑक्साइड बनाता है।

मैग्नेट्रॉन लक्ष्य स्रोतों के साथ धातुओं और मिश्र धातुओं को स्पटर करना आसान है, और इग्निशन और स्पटरिंग सुविधाजनक है। ऐसा इसलिए है क्योंकि लक्ष्य (कैथोड), प्लाज्मा और स्पटर वाले हिस्से का वैक्यूम चैम्बर एक सर्किट बना सकता है। लेकिन अगर सिरेमिक जैसे स्पटरिंग इंसुलेटर, सर्किट टूट जाता है। इसलिए लोग उच्च-आवृत्ति बिजली आपूर्ति का उपयोग करते हैं, और लूप में एक मजबूत संधारित्र जोड़ते हैं। इस तरह, लक्ष्य सामग्री इंसुलेटिंग सर्किट में एक संधारित्र बन जाती है।

लक्ष्य सामग्री की उपयोग दर बढ़ाने के लिए, वैक्यूम कोटिंग मशीन एक घूर्णन चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग कर सकती है

चुंबकीय क्षेत्र और इलेक्ट्रॉनों के बीच परस्पर क्रिया का उपयोग इलेक्ट्रॉनों को लक्ष्य सतह के निकट सर्पिल आकार में चलाने के लिए किया जाता है, जिससे आयन उत्पन्न करने के लिए इलेक्ट्रॉनों द्वारा आर्गन गैस से टकराने की संभावना बढ़ जाती है। उत्पन्न आयन विद्युत क्षेत्र की क्रिया के तहत लक्ष्य की सतह से टकराकर लक्ष्य को बिखेर देते हैं। हाल के दशकों के विकास में, स्थायी चुम्बकों को धीरे-धीरे अपनाया गया है, और कुंडल चुम्बकों का उपयोग शायद ही कभी किया जाता है। संतुलन या असंतुलन के बावजूद, यदि चुंबक स्थिर है, तो इसकी चुंबकीय क्षेत्र विशेषताएं निर्धारित करती हैं कि सामान्य लक्ष्य उपयोग दर 30 प्रतिशत से कम है। लक्ष्य सामग्री की उपयोग दर बढ़ाने के लिए, एक घूर्णन चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग किया जा सकता है। लेकिन चुंबकीय क्षेत्र को घुमाने के लिए एक घूर्णन तंत्र की आवश्यकता होती है, और साथ ही स्पटरिंग दर कम हो जाती है।

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