वैक्यूम फॉर्मर्स को वाष्पीकरण स्रोत या वाष्पीकरण लक्ष्य की आवश्यकता होती है

वैक्यूम फॉर्मर्स को वाष्पीकरण स्रोत या वाष्पीकरण लक्ष्य की आवश्यकता होती है

विभिन्न कोटिंग तकनीकों के लिए वाष्पित फिल्म बनाने वाली प्रजातियों को गैस में परिवर्तित करने के लिए वाष्पीकरण स्रोत या लक्ष्य की आवश्यकता होती है। लगातार बढ़ते स्रोतों या लक्ष्यों के साथ, फिल्म निर्माण सामग्री का विकल्प काफी बढ़ जाता है। चाहे वह धातु, मिश्र धातु, यौगिक, सिरेमिक या कार्बनिक पदार्थ हो, विभिन्न धातु फिल्मों और ढांकता हुआ फिल्मों को वाष्प-जमा किया जा सकता है, और बहुपरत फिल्में प्राप्त करने के लिए विभिन्न सामग्रियों को एक साथ वाष्प-जमा किया जा सकता है।

वैक्यूम बनाने की मशीन असंतुलित मैग्नेट्रोन स्पटरिंग तकनीक

इसलिए, मैग्नेट्रोन कोटिंग मशीन कम काम के दबाव और वोल्टेज के तहत डिस्चार्ज कर सकती है, और लक्ष्य उपयोग दर अपेक्षाकृत अधिक है। हालाँकि, सब्सट्रेट क्षेत्र पर आयनों की बमबारी कम होती है क्योंकि इलेक्ट्रॉन चुंबकीय क्षेत्र रेखाओं के साथ चलते हैं और ज्यादातर लक्ष्य सतह तक ही सीमित रहते हैं। असंतुलित मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक की अवधारणा का अर्थ है कि मैग्नेट्रोन कैथोड के बाहरी चुंबकीय ध्रुव का चुंबकीय प्रवाह आंतरिक चुंबकीय ध्रुव की तुलना में बड़ा है, यानी, दो चुंबकीय ध्रुवों की चुंबकीय क्षेत्र रेखाएं पूरी तरह से बंद नहीं होंगी लक्ष्य सतह पर, और चुंबकीय क्षेत्र रेखाओं का एक निश्चित अनुपात होता है। यह लक्ष्य के किनारे वाले हिस्से के साथ सब्सट्रेट क्षेत्र तक विस्तारित होगा, ताकि इलेक्ट्रॉनों का हिस्सा चुंबकीय क्षेत्र रेखाओं के साथ सब्सट्रेट तक फैल सके, जिससे सब्सट्रेट क्षेत्र में प्लाज्मा घनत्व और गैस आयनीकरण दर में वृद्धि होगी। असंतुलित संतुलन के बावजूद, यदि चुंबक स्थिर है, तो इसकी चुंबकीय क्षेत्र विशेषताएं 30 प्रतिशत से कम की सामान्य लक्ष्य उपयोग दर निर्धारित करती हैं। लक्ष्य उपयोग को बेहतर बनाने के लिए एक घूर्णन चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग किया जा सकता है। यदि घूर्णनशील चुंबकीय क्षेत्र के लिए घूर्णन तंत्र की आवश्यकता होती है, तो स्पटरिंग दर कम हो जाती है। घूमने वाले चुंबकीय क्षेत्र का उपयोग अधिकतर बड़े या मूल्यवान लक्ष्यों के लिए किया जाता है। उदाहरण के लिए, अर्धचालक पतली फिल्मों का स्पटरिंग। छोटे उपकरणों और सामान्य औद्योगिक उपकरणों के लिए, चुंबकीय क्षेत्र स्थैतिक लक्ष्य स्रोत का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।

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